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一、VL-5000直讀光譜儀憑借其高性能及可靠設計，以及創(chuàng)新光學系統(tǒng)和擴展的波長范圍，可確保對重要元素的精確鑒定和痕量分析，儀器擁有低檢出限及優(yōu)良的長期穩(wěn)定性；分析結果準確，重現(xiàn)性好。創(chuàng)想儀器運用檢測器與數(shù)字讀出技術相結合，使儀器整體設計優(yōu)于傳統(tǒng)的光電倍增管技術，已逐漸成為金屬制造業(yè)，加工業(yè)及鑄造業(yè)的重要選擇。

二、VL-5000直讀光譜儀采用了全新的光學系統(tǒng)設計，其中結合了帶優(yōu)化像素分辨率測器技術，光柵分光技術，代表了數(shù)碼時代的直讀光譜技術。

分光系統(tǒng)由于采用具有高達2400x8條像素，實現(xiàn)分析波段內的全譜接收。各個元素分別采用多條譜線分析綜合輸出，動態(tài)范圍大，結果準確。放置的探測器滿足分析波段內的所有譜線接收無一遺漏，實現(xiàn)同一元素多條譜線同時測定，自動選擇輸出。

三、針對等離子態(tài)光譜信號的觀測特點,為了獲取最佳的觀測角度以獲得最佳的分析數(shù)據,創(chuàng)想儀器將光室進行了特定角度的傾斜放置，這一設計在CCD/CMOS光譜中是從未出現(xiàn)過的。

四、VL-5000光譜儀在每次激發(fā)時，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。全譜技術自動描跡調整光路，激發(fā)樣品時，儀器自動識別每塊檢測器上的特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。消除因溫度、氣壓、震動等變化而產生的光譜漂移；而傳統(tǒng)使用光電倍增管技術的光譜必須進行手動進精細調節(jié)，技術要求很高。全譜技術自動快速尋址，避免了費事費力的手動操作，也避免了人為誤差。

五、VL-5000光譜儀采用全譜直讀技術，儀器可以非常方便增加譜線，增加基體，在不添加硬件設施的情況下，即可實現(xiàn)多基體分析?？蛻艨梢栽谑褂眠^程中根據實際需要在儀器上增加分析的基體及元素種類，這些工作可以在用戶現(xiàn)場方便完成。相比同類采用PMT技術的光譜儀，則需要大范圍改動硬件。同時由于初始儀器的配置限制，可能無法添加客戶要求的基體或元素。

六、VL-5000光譜儀的火花臺進行了全新設計，除保留了傳統(tǒng)火花臺的優(yōu)勢外，針對新的應用需求作了相應的優(yōu)化。

火花臺采取了密封式設計，整個火花臺的結構堅固，在儀器持續(xù)使用高溫火花激發(fā)的情況下保持火花臺結構的穩(wěn)定。

七、VL-5000光譜儀的火花臺通過結構設計上的變化改進了氬氣流的噴射方向，大大減少了火花激發(fā)在火花臺上的殘留，使火花臺的清潔和維護也變得簡單。

VL-5000光譜儀保留了開放式樣品臺的設計，使樣品的放置及分析更加簡便，樣品處理也比傳統(tǒng)光譜更加簡單。除電極間隙外，無特別調整要求。

八、VL-5000光譜儀采用了獨特的噴射電極技術（JET STREAM）。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流。這種技術會帶來以下優(yōu)勢：激發(fā)點周圍的氬氣流保證了激發(fā)過程不受外界干擾。節(jié)省了氬氣的使用，降低了客戶的使用成本。樣品臺無須密封，線材等小樣品也可以非常方便的借助適配器進行分析。抽拉式前罩，使激發(fā)臺的清理維護更加方便。

九、VL-5000光譜儀的入射光路設計簡潔。通過將入射光路與光室系統(tǒng)直接連接，兩道透鏡入射窗口確?；覊m與防護獨立分開，維護清洗變得非常方便，客戶可以在日常工作中自行進行操作；

VL-5000光譜儀的電路系統(tǒng)進行了全新的設計。光譜儀采用了同步實時數(shù)字讀出技術，與傳統(tǒng)的順序讀出技術相比，分析時間和數(shù)據的穩(wěn)定性都會大大提高。

十、VL-5000光譜儀采用了全數(shù)字等離子火花光源技術。所有的激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據實際需求自定義進行設置。

VL-5000光譜儀將電路系統(tǒng)與光學系統(tǒng)進行了完全的分離，將電路系統(tǒng)統(tǒng)一置于儀器光室的外部分，這樣的設計使儀器的散熱功能大大提升，同時使儀器的后續(xù)維護也十分便捷。

十一、VL-5000光譜儀的操作軟件十分簡單易學，全中文或英文菜單。沒有任何光譜儀器知識背景的操作人員只需簡單培訓，就可進行儀器的使用。